클린룸

소자제작을 위하여 특별히 꾸며진 실험실로써 365일 24시간 항온·항습을 유지하고 있으며, 에어샤워장치와 공기정화 장치를 통해 외부로부터의 먼지를 차단하여 항상 청정한 환경을 유지하고 있습니다.
    AFM (Atomic Force Microscope)

제조사: Park systems
Model: NX10
장비설명:
* 시료의 표면을 매우 가는 금속 Tip(cantilever)의 끝을 이용하여 원자 간의 힘을 광학적 방법으로 측정
* Tip과 시료표면의 원자사이에 작용하는 반데르발스힘을 검출하여 시료의 표면스캔
* Cantilever의 Tip 끝에 레이저를 반사시켜 반사되는 레이저의 위치를 이용하여 이미지생성
* 분해능은 팁 끝의 두께(nm크기)에 따라 달라지고 원자수준까지 볼 수 있음
* Contact Mode : 원자사이의 척력 검출
* Non-Contact Mode : 시료와 팁사이의 인력 검출 (반데르발스힘)
* Tapping Mode : 큰 진폭과 간헐적인 팁과 시료와의 접촉을 통해 시료 표면정보를 얻어냄
* 전처리 없이 (액체시료 제외) 시료분석 가능

사용 요율 : 자가이용(1만원/h)
    ALD (Atomic Layer Deposition)

장비:Atomic layer deposition
제조회사: NVD (엔씨디)
Model: Lucida D100
장비설명:
- Ultra-thin film deposition with good thickness uniformity and conformal step coverage
- Deposition materials: Al2O3, HfO2
- Wafer size: 4“ 이내 (조각 시편 사용 가능)
- Substrate temperature: 25C°–350C°

사용요율: operator(처음 10만원/h, 이후 6만원/h) , 직접 사용 (처음 5만원/h, 이후 3만원/h)
    E-beam Evaporator

제조사: Korea vacuum tech (코리아바큠테크)
Model : GLAD E-BEAM EVAPORATOR SYSTEM, KVE-E4006L
장비설명 :
- Metal and oxide deposition
- Deposition source (metal): Au, Ti, Ni, Pt, Cr, Al, etc.
- Deposition source (oxide): SiO2, ITO, etc.
- Wafer size: 4“ 이내
- Substrate rotation and tilt 가능

사용 요율 : 학기별 정액제
    FE-SEM (Field Emission - Scanning Electron Microscope)

제조사 : TESCAN
Model : MIRA3 FE-SEM
장비설명 :
- 전자선을 샘플 표면에 주사하여 전자선이 한곳에 집중되면 일차 전자만 굴절되고 표면에서 발생된 이차전자를 수집하여 그 신호들을 형상화 시키는 현미경
- EDS(Energy Dispersive Spectrometer)가 부착되어 있어 시편의 성분과 선분 표면에 관한 연구 수행이 가능

사용 요율 : 학기별 정액제
    FIB(Focused Ion Beam)

제조사 : FEI
Model : THE QUANTA(200 3D)
장비설명 :
- Ion beam을 이용한 milling 및 deposition 이미지 출력 (SEM 내장)
- FIB(Focused Ion Beam) 기본적으로 SEM과 FIB의 dual-beam system으로 구성
- 기본 SEM을 통해 고해상도 이미지를 생성가능하며, Ga Ion beam으로 마이크론 사이즈 스케일 내에서 선택적으로 샘플의 표면을 milling하고 deposition 가능
- 다양한 optional mode가 존재하며 Low vaccum에서 bio-material을 측정할 수 있는 모드
- Pt deposition 가능

사용 요율 : 자가 이용 6만원/h
    Mask Aligner

제조사 : MIDAS (마이다스)
Model : MDA-400S
장비설명 :
- Light exposure equipment with aligning of photo-mask and wafer.
Wafer size: 4’’, 6’’ (조각 시편 사용 가능)
- Light source: 350 Watt Mercury lamp & Intensity controllable power supply
- UV beam: 350–450 nm, 4.25 x 4.25 inch, 20 mW/cm2, ±3% uniformity
- Contract mode: soft, hard, vacuum contact & proximity
- Alignment accuracy: 1m
- Substrate chuck moving: X,Y,Z & θ

사용 요율 : 학기별 정액제
    Probe Station

제조사 : MS TECH
Model : MST 5500B
장비설명 :
- Probe Station Main
Chuck : 6 Inch Low Noise Chuck, On Ceramic Pad
Vacuum Chuck On/off Switch
- Chuck Ground, Back Gate
X/y State : Travel 100x 100mm, Resolution : 5um
Microscope : Travel 50 X 50mm, Fine Manual Fine Knob
[X/y Stage]

사용 요율 : 학기별 정액제